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中微公司发布用于22纳米及以下芯片加工的下一代刻蚀设备2021-04-01 00:46

本文摘要:中美半导体设备(上海)有限公司(以下全称中微公司)本周公布了用于生产22纳米以下芯片的第二代300毫米VHF耦合反应离子光刻装置- PrimoAD-RIE。以业界认可的PrimoD-RIE光刻设备为基础,Microprimoad-RIE应用于更好的技术创新,可解决高级芯片简单生产过程中出现的问题,同时确保芯片加工质量。

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中美半导体设备(上海)有限公司(以下全称中微公司)本周公布了用于生产22纳米以下芯片的第二代300毫米VHF耦合反应离子光刻装置- PrimoAD-RIE。以业界认可的PrimoD-RIE光刻设备为基础,Microprimoad-RIE应用于更好的技术创新,可解决高级芯片简单生产过程中出现的问题,同时确保芯片加工质量。这些技术革新还包括,先进设备的射频系统能够保证光刻过程的稳定性和重复性,具有很好的回声能力,能够保证非常精细和重要的尺寸均匀性,更好地对室内墙壁材料做出反应,减少缺陷,提高产品产量。

与前几代产品一样,primoAD-RIE与行业标准相比,资本效率提高了35%至50%,总体享受成本降低了20%至40%,构建了更灵活的产品设计,占地面积比同类设备至少少30%的Primo,产品将于今年第三季度订购。第一家PrimoAD-RIE将转入亚洲一流芯片代工厂。PrimoD-RIE装置随后被用作22nm以上芯片光刻和部分22nm以下光刻工艺的加工。

对于芯片厂来说,中美新设备上市的时间在一定程度上是他们面对挑战的时候。各修正院工厂持续扩大规模和新材料的整合,带来了技术障碍,大幅上升的资本支出费用影响了利润。对于光刻设备制造商来说,这意味着要提高生产加工设备的创意速度,更加先进,柔软,可靠,但要形式化,节约成本。(威廉莎士比亚、光刻、光刻、光刻、光刻)是中央扰动的最佳跳板,也是迄今已有30多台设备转入亚洲9个客户(包括世界上最好的晶片制造商)的胜利亮点。

(威廉莎士比亚、晶片、晶片、晶片、晶片、晶片、晶片)为了进一步满足市场需求,中美正在中国持续扩大生产能力。今年,中华将在台湾竹南地区完成新的组装和测试工厂设施。

客户最近想要最尖端设备的加工技术,但对生产成本的考虑比以往任何时候都脆弱。中美公司副总裁、光刻产品部总经理朱信平表示,PrimoAD-RIE为尖端设备的核心工艺加工带来了技术革新和提高生产力的线性计划,客户可以在不影响生产力的情况下使用更多Startflet的工艺战略。

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新老客户都对我们的产品表现出极大的兴趣。PrimoAD-RIE以PrimoD-RIE为基础,具有更多创新的技术创新PrimoAD-RIE,在提高中微台光刻设备技术革新的同时,正在大力拓展自身加工领域。该装置的主要部分是创新的少量反应台反应器的集群体系结构,可以灵活安装多达3个双反应台反应器,以实现最佳芯片加工输出量。

每个反应器可以制作单芯片或双芯片加工。独特的反应器腔设计融合了中美垄断等离子体审查和喷射头技术,保证了芯片加工的质量。

PrimoAD-RIE的一些基本功能进一步降低了28nm以下的主要光刻处理能力。除了60兆赫射频外,这些基本功能还包括2-13.5兆赫可转换射频,用于使PrimoAD-RIE处理范围更加普遍,独特的无线输出和平面用于提高等离子体密度的均匀分布。系统特点及优势:1、结合反应离子光刻建立了离子浓度和离子能量的独立国家控制。

2、独特的VHF无线输出和平面可以确保批量生产环境下重复结果构建的准确控制。3.拥有自主知识产权的等离子体审查将使广角过程更加顺畅和可信,并提供更明确的工艺窗口。4、各反应台独立国家的射频发生器、各反应台均匀性的个别控制及光刻起点,允许各晶圆在独立国家的反应环境中进行光刻。

5、从地面提供能量的高频射频波获得柔软、高压、高密度等离子体,保持low-k材料的完整性。6、自律知识产权,速度慢、柔软、具有可靠回声功能的自我隔离射频给定装置;7.反应钢内壁搭配高纯度、内等离子体相似材料,开发出最佳材料加工工艺,大大减少了损失,减少了杂质粒子的数量。

8、电阻上电极所需冷却处置的闭环控制,为持续芯片加工过程获得了准确、缓慢的温度控制。9、双反应台反应器的集群体系结构,最多可配备6个单片机加工反应台,即在较小的占地空间内实现高吞吐量。

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10、模块化系统体系结构使操作员易于安装和保障。


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